相关文章

真空气氛管式炉用途及特点概述

真空气氛管式炉用途及特点概述

一、真空气氛管式炉用途

用于材料或化学实验室,在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。真空气氛管式炉广泛应用于高、中、低温SK工艺,例如;纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长以及碳纳米材料的实验等等;也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。

二、真空气氛管式炉特点

1、加热炉膛有上下两部分组成、其中上部炉膛可整体向后翻转110°,方便取放实验物料,炉膛材料采用优质的多晶莫来纤维真空吸附制成,节能50%,温场均匀。电热元件采用高电阻优质合金丝0Cr27a17Mo2;

2、完善的气路装置,具有进出气微量可调功能,管内压力由仪表显示,一目了然。采用可靠的多环密封技术,快速链接法兰方便操作;

3、随产品配置的不同口径的优质石英玻璃管与两端不锈钢密封总成连接后,为试验提供一个温场均匀、洁净、高温、气氛可控的环境。

4、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PDI调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能。该控制系统温度显示精度为1℃,温场稳定度±2℃,温场均匀性6℃,升温速率1~10℃可任意设置;

5、真空气氛管式炉超温保护、漏电保护功能,使用更安全;

6、真空气氛管式炉利用空气隔热技术,炉壳表面温度<50℃。